【摘 要】
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金刚石及其薄膜材料具有极其优异的物理、化学性能,应用前景十分广阔.近二十年来,化学气相沉积(CVD)金刚石薄膜快速发展.激光辅助化学气相沉积(LACVD)是一种新型的CVD法,拓宽
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金刚石及其薄膜材料具有极其优异的物理、化学性能,应用前景十分广阔.近二十年来,化学气相沉积(CVD)金刚石薄膜快速发展.激光辅助化学气相沉积(LACVD)是一种新型的CVD法,拓宽了金刚石薄膜的应用领域.该学位论文对激光辅助化学气相沉积金刚石薄膜,从理论和实验两方面进行了系统研究.首次应用建立的二维气相输运模型和包括34个基元反应的化学动力学模型,对LACVD化学气相动力学进行数值模拟计算.该论文根据建立的表面—气相化学反应动力学模型,应用计算所得的表面—气相反应速率常数,利用堆积生长理论并与气相反应动力学研究相结合,以CH<,3>为金刚石生长前驱物,首次对LACVD表面——气相反应动力学过程进行了理论研究.该论文关于LACVD的诸如衬底温度、碳源气体比例、予解离灯丝温度和激光注入功率等主要宏观参数对LACVD法合成金刚石薄膜的沉积速率和薄膜质量的影响进行了系统的实验研究.
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