金刚石薄膜磁性研磨抛光技术研究

来源 :同济大学职业技术教育学院 同济大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yougot_chen
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金刚石因具有极高的硬度、高导热性、低摩擦系数和低热膨胀系数等优异性 能已成为理想的刀具模具材料。CVD金刚石薄膜涂层刀模具就是在刀模具基体 上直接沉积金刚石薄膜,与金刚石刀模具相比,具有相似的性能,但其制造设备 投资小,性能价格比高,具有很强的市场竞争力。金刚石薄膜的高效抛光是一个 有待解决的难题。本论文首次提出了用磁性研磨抛光金刚石薄膜。并对抛光机理 和技术进行了深入研究。 本论文主要完成的工作有: 1研制改装符合内表面抛光的磁性研磨装置,并对磁性研磨机理进行了分析 研究。 2分析并了解了磁性磨粒的制备技术,采用烧结法制备磁性磨粒的研制。针 对金刚石薄膜内表面的抛光特点,分析磨粒参数对抛光的影响。 3对金刚石涂层硬质合金拉丝模的制备进行了较系统的研究,成功的在现有 设备的基础上利用直拉热丝CVD法,得到了厚度和质量都比较均匀的金刚石涂 层拉丝模。 4金刚石薄膜的表面粗糙度直接影响试件的使用寿命和性能,使用磁性研磨 装置对金刚石涂层拉丝模进行抛光,抛光效果比较理想,工作寿命比没抛光前提 高8~10倍。对抛光参数进行了实验分析。 关键词:磁性研磨,抛光,表面粗糙度,CVD金刚石薄膜,涂层拉丝模
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