TiO<,2>薄膜的磁控溅射制备及其光催化性能研究

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本文采用直流反应磁控溅射法制备了TiO_2光催化活性薄膜,以其在紫外光下对罗丹明B的降解率作为活性评价标准,并通过正交试验法优化了溅射工艺,根据优化结果,制定了不同溅射气压、不同靶基距、不同基体温度3个系列的薄膜,然后分别对其进行XRD、AFM、膜厚以及光催化性能表征。分析了溅射气压、靶基距、基体温度,薄膜的厚度、晶型、粒径、光催化性能几者间的因果关系;另外,分别讨论了光催化降解前的预吸附时间、降解液的初始浓度及初始pH值对薄膜光催化降解率的影响情况。研究结果表明,最优参数组
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