无显影气相光刻和聚苯胺导电高分子的化学研究

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该文对无显影气相光刻-一种新颖的高分辨率的微电子光刻技术和在光电子领域有广泛应用前景的导电材料聚苯胺进行了系统的研究.得到以下结果:一、实验和理论分析证实:气相HF对SiO<,2>的刻蚀反应是一个新核取代反应,提高新核试剂的活性或改善离去基团的离去能力均可提高反应速度;偶极非质子类和三级胺类化合物是良好的HF和SiO<,2>反应的诱蚀剂;二、在光刻工艺方面,提出并实践成功两条在曝光区产生诱蚀剂浓度差的新途径.该文还对无显影气相光刻工艺进行了优化,改进了腐蚀装置并尝试用准分子激光器作为曝光光源,获得了0.4μm的高分辨率; 三、合成了C<,60>富勒醇六硫酸,并用它成功地对聚苯胺进行掺杂,从而获得具有三维结构的聚苯胺导电高分子,用多种分析手段对其固态性质进行了表征;四、实验证实聚苯胺的电导率除与掺杂水平有关外,还与聚苯胺高分子链的构象、高分子链间的排列和堆砌方式、有序性以及结晶性等有关;五、该文发现C<,60>富勒醇六硫酸掺杂的聚苯胺用NH<,3>处理后可被去掺杂,随后浸泡在此C<,60>衍生物的溶液中又可重新被掺杂,在这可控制的掺杂-去掺杂-重新掺杂的过程中,聚苯胺的光电学性质能发生可逆变化,但是其微观结构却是不可逆的.NH<,3>去掺杂虽然可使聚苯胺的电导率降低,但是整个体系的结晶性却更好了,这种材料在光电子领域有特殊的用途.
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