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摩尔定律一直被认为是半导体行业发展的金科玉律,而要让摩尔定律一直有效的关键是不断提高光刻分辨力。众所周知,从投影式光刻机的分辨力公式可以看出,提高分辨力的途径是降低工艺因子、缩短曝光波长和增大数值孔径,而缩短光源波长和增大数值孔径必须付出高昂的代价。为此,各国科学家努力寻求新的提高光刻分辨力的方法和技术,以满足下一代光刻技术的迫切需求。纳米压印光刻(nanoimprint lithography,NIL)使用固体压印原理,彻底摆脱了光子波长的局限,可以做到纳米级的成像。