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【摘 要】
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报道以氧或者水汽作为离了源以等离子体浸没离子注入（ＰⅢ）离子合成ＳＩＭＯＸ。我们研究了ＰⅢ离子合成埋层ＳｉＯ〈，２〉的工艺。用ＳＩＭＳ、ＸＴＥＭ等技术对样品进行了测试。
【机 构】
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市计量测试技术研究院,上海微电子分析测试重点实验室(上海)
【出 处】
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第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会
【发表日期】
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1999年期
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