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来源 :中国表面工程协会电镀分会第五届年会 | 被引量 : [!--cite_num--]次 | 上传用户:[!--user--]
【摘 要】
:
该文建立P型半导体上激光诱导电沉积金属的界面模型。在两个假设基础上导出了光电流与电子动力学特性,外加偏压,及激光强度的关系式并用实验结果运行了初步验证;同时采用阻抗测
【作 者】
:
郭鹤桐[1]张国庆[1]刘冰[1]姚素薇[1]龚正烈[2]
【机 构】
:
天津大学应用化学系
【出 处】
:
中国表面工程协会电镀分会第五届年会
【发表日期】
:
1998年期
【关键词】
:
硅
金属电沉积
界面反应
激光诱导半导体
半导体表面
电沉积
激光诱导
建立模型
激光诱导电沉积
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