【摘 要】
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Sputter depth profling is a destructive method to obtain the in depth distribution of elemental composition in thin flms.Quantifcatio3n with respect to original in depth distribution requires conversi
【机 构】
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Department of Physics,Shantou University,243 Daxue Road,Shantou,515063 Guangdong
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Sputter depth profling is a destructive method to obtain the in depth distribution of elemental composition in thin flms.Quantifcatio3n with respect to original in depth distribution requires conversion of the intensity to concentration and the sputtering time to depth and also a correction of the inevitable distortions induced by the sputtering process [1].In this talk,the MRI(Mixing-Roughness-Information)model that is widely used for the quantifcation of AES,XPS,SIMS and GDOES sputter depth profles is frstly reviewed.Then this model is applied to extract the in depth distribution of implanted ions [2],the interdiffusion en coeffcient of nano-layered structure [3],the interface roughness of multilayered structure [4] and the molecular structure of self-assembled monolayer [5] from the respective measured depth profling data.
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