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该文以两种成分的影像单点像素分离为例详细介绍了Ｘ辐射多重投影成像的基本理论，并讨论了误差的产生和对测量条件的限制。
变化能谱X辐射多重投影成像方法研究
【摘 要】
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该文以两种成分的影像单点像素分离为例详细介绍了Ｘ辐射多重投影成像的基本理论，并讨论了误差的产生和对测量条件的限制。
【机 构】
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大学工程物理系粒子技术和辐射成像实验室(北京)
【出 处】
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第八届全国核电子学与核探测技术学术年会
【发表日期】
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1996年期
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