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利用多重散射自洽场方法，计算了SiH<,4>分子内壳层(2s，2p)电子跃迁光吸收谱，计算的能级位置和振子强度密度都与实验符合较好。通过研究Si2p→3pt<,2>(3t<,2>)跃迁，初步判断跃迁后SiH<,4>分子核构型将发生变化。（可能由基态时的Td对称性转变为C<,3v>对称性。）
SiH,4分子近阈结构的理论研究
【摘 要】
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利用多重散射自洽场方法，计算了SiH分子内壳层(2s，2p)电子跃迁光吸收谱，计算的能级位置和振子强度密度都与实验符合较好。通过研究Si2p→3pt(3t)跃迁，初步判断跃迁后SiH分子核构
【机 构】
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中国科学院物理研究所(北京)
【出 处】
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第十届全国原子与分子物理学术会议
【发表日期】
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2000年8期
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