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实践中发现影响隔离层质量一个重要因素是存在于带材中的缺陷。通过SEM/EDS分析，判断出缺陷的发生位于金属基带和缓冲层界面，并发现缺陷处有异常高的C元素，因此判断缺陷产生的根源是在抛光带表面的有机物污染。据此，我们找出了抛光工艺中的有机物污染源，改进了我们的工艺。
隔离层缺陷的研究
【摘 要】
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实践中发现影响隔离层质量一个重要因素是存在于带材中的缺陷。通过SEM/EDS分析，判断出缺陷的发生位于金属基带和缓冲层界面，并发现缺陷处有异常高的C元素，因此判断缺陷产生
【机 构】
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苏州新材料研究所,苏州215125
【出 处】
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第十三届全国超导学术研讨会
【发表日期】
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2015年期
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