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来源 :2009全国青年摩擦学学术会议 | 被引量 : [!--cite_num--]次 | 上传用户:[!--user--]
【摘 要】
:
本文在不同的基低偏压下,采用直流溅射石墨靶的方法制备了非晶碳薄膜。结果显示,随着基底偏压的升高,薄膜中的sp2石墨片状结构含量增加,同时变得更加有序;当基低偏压进一步升高时
【作 者】
:
王舟[1]
王琦[2]
张俊彦[1]
【机 构】
:
中国科学院兰州化学物理研究所,兰州甘肃730000中国科学院兰州化学物理研究所,兰州甘肃730000;兰州大学物理系,兰州甘肃730000
【出 处】
:
2009全国青年摩擦学学术会议
【发表日期】
:
2009年5期
【关键词】
:
直流溅射
石墨靶
非晶碳薄膜
摩擦学性能
剪切阻力
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