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深亚微米X射线光刻的HEMT器件制作中的应用
深亚微米X射线光刻的HEMT器件制作中的应用
来源 :第九届全国化合物半导体.微波器件.光电器件学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ww4102001
【摘 要】
:
将该技术应用于HEMT器件制作也初试成功。
【作 者】
:
叶甜春
胡一贯
朱樟震
【机 构】
:
科学院微电子中心
【出 处】
:
第九届全国化合物半导体.微波器件.光电器件学术会议
【发表日期】
:
1996年期
【关键词】
:
深亚微米
射线
光刻
器件制作
技术应用
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将该技术应用于HEMT器件制作也初试成功。
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