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本文采用中频非平衡磁控溅射工艺,在316L不锈钢基体上制备氮化钛膜层.通过改变工作气氛、偏压模式以及溅射功率制备了一系列试样.分别利用分光光度计、扫描电子显微镜、X射线衍射仪和纳米力学综合测试仪等分析仪器对制备的试样进行分析测试。
工艺参数对中频非平衡磁控溅射制备TiN膜性能的影响
【摘 要】
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本文采用中频非平衡磁控溅射工艺,在316L不锈钢基体上制备氮化钛膜层.通过改变工作气氛、偏压模式以及溅射功率制备了一系列试样.分别利用分光光度计、扫描电子显微镜、X
【机 构】
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东北大学,辽宁,沈阳,110004
【出 处】
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2005’全国真空冶金与表面工程学术会议
【发表日期】
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2005年期
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