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【摘 要】
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基于商用RPCVD设备结构参数，建立了RPCVD反应室结构模型；基于反应室模型，计算了雷诺数Re，确定了RPCVD的流体模型；采用FLUENT软件，模拟了RPCVD反应室的温度场、密度场、速度场，并
【机 构】
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西安电子科技大学微电子学院,宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室,西安710071
【出 处】
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第十七届全国半导体集成电路、硅材料学术会议
【发表日期】
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2011年11期
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