Spectroscopic ellipsometry studies for wide range of thin film semiconductors and oxides

来源 :第一届全国椭圆偏振光谱学研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：leki55

【摘要】

：

We review our spectroscopic ellipsometry studies for wide range and large amounts of thin film or layered structural semiconductors and oxides.They have been me

【作者】

：

Zhe Chuan Feng Zhi Ren Qiu

【机构】

：

InstituteofPhotonicsandOptoelectronicsandDepartmentofElectricalEngineering,NationalTaiwanUniversity,

【出处】

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第一届全国椭圆偏振光谱学研讨会

【发表日期】

：

2014年11期

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We review our spectroscopic ellipsometry studies for wide range and large amounts of thin film or layered structural semiconductors and oxides.They have been measured by variable angular (VA)spectroscopic ellipsometry (SE) technique,using J.A.Woollam M-2000 SE instruments at room temperature (RT),and analyzed by fitting using Complete EASE software.

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