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采用反应磁控溅射方法制备了Ti-Al-N薄膜。光学特性和结构分析表明，当Ti-Al-N薄膜中Ti的含量X小于0.25时，其折射率大于2.10，光学透过率在75℅以上；Ti-Al-N薄膜只显示Al基氮化物的闪锌矿结构，担晶格常数随Ti原子含量的增加而增大，调射线光电子能谱谱分析显示，Ti-Al-N薄膜有与AlN和TiN不同的电子结构特征。