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该文研究了天线耦合式MPCVD制备金刚石薄膜的特点，考察了气体压力、甲烷浓度、输出功率及基体位置对沉积面积及沉积薄膜均匀性的影响，并成功地制备出直径为60mm～80mm的金刚石薄膜，比常用的表面波耦合MPCVD设备制备的薄膜面积扩大了一倍。
无线耦合式MPCVD制备大面积金刚石薄膜的研究
【摘 要】
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该文研究了天线耦合式MPCVD制备金刚石薄膜的特点，考察了气体压力、甲烷浓度、输出功率及基体位置对沉积面积及沉积薄膜均匀性的影响，并成功地制备出直径为60mm～80mm的金刚石薄
【机 构】
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联合大学无机材料系(成都)
【出 处】
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第三届中国功能材料及其应用学术会议
【发表日期】
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1998年期
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