CVD金刚石薄膜RIE刻蚀的掩膜技术

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【摘要】

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金刚石薄膜RIE刻蚀必须选用硬掩膜,NiTi合金掩膜具有刻蚀选择比高、加工工艺简单、图形化效果好的优势,Ni掩膜特别是电镀方法制作的Ni掩膜以其精确的尺寸控制能力、理想的多

【作者】

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丁桂甫赵小林杨春生俞爱斌姚翔沈天慧

【机构】

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上海交通大学微米纳米研究院(上海)

【出处】

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第四届全国微米/纳米技术学术会议

【发表日期】

：

2000年期

【关键词】

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金刚石薄膜RIE刻蚀必须选用硬掩膜,NiTi合金掩膜具有刻蚀选择比高、加工工艺简单、图形化效果好的优势,Ni掩膜特别是电镀方法制作的Ni掩膜以其精确的尺寸控制能力、理想的多层结构模式和适当的刻蚀选择比而特别适合于精细结构加工时使用.用上述掩膜对金刚石薄膜进行RIE刻蚀,可以获得线条整齐规则、侧壁平滑陡直的优异加工效果.

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