氮化镓基激光器光学损耗研究

• 作 者: 程洋[1]刘建平[1]李德尧[1]池田昌夫[1]周坤[1]张峰[1]张书明[1]张立群[1]杨辉[2]
• 机 构: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所,苏州,215123
• 出 处: 第一届全国宽禁带半导体学术及应用技术会议
• 发表日期: 2015年期

光学损耗是表征激光器性能的重要参数,对激光器的阈值电流、斜率效率有直接的影响.测量激光器的光学损耗对于激光器的研究具有巨大的推动作用.传统的测量氮化镓基激光器光学损耗的方法主要有Hakki-Paoli法、变腔长法,这两种方法都需要制备完整的激光器样品.2010年,DmitryS.Sizov等人提出了一种直接测量氮化镓基激光器外延片光学损耗的方法,并在实验上证实了p型层同镁相关的能级引起的吸收是氮化镓基激光器光学损耗的主要来源.本研究搭建了一套直接测量氮化镓基激光器外延片光学损耗的系统，如图l所示。实验中，405nm激光聚焦到外延片表面，在有源区激发出荧光。荧光向前传播，在外延片侧壁发射出来，然后通过光收集系统聚焦，被光谱仪收集。移动微动平台，改变光波导的距离，记录不同波导距离下的荧光光谱。