a-Si电池的p掺杂层优化的椭偏模型研究

来源 :第十四届中国光伏大会暨2014中国国际光伏展览会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:Jeanneyli
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  通过调节不同的p 层工艺,获得了开压范围为0.80~1.03V 的非晶硅电池(a-Si),发现在高压高功率条件下沉积的双层并且掺杂浓度梯度上升的p 层可以获得最高的电池开路电压(1.03V).使用椭偏仪研究这些不同的p 层材料,拟合出材料的介电常数,使用介电常数计算出材料的带隙为1.87~2.1eV,发现p 层的光学带隙与电池的开压有一定的关联.
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