掩模台和承片台的运动标准偏差对ArF光学成像质量的影响

• 作 者: 黄国胜;李艳秋;
• 机 构: 中国科学院电工研究所,北京,100080
• 出 处: 中国光学学会2004年学术大会
• 发表日期: 2004年期

本文针对分辨率为100nm 的ArF光刻机，对100nm 密集线条，在特定的投影物镜条件下，考虑环形照明和Quasar 照明系统，应用仿真软件PROLITH 8，分别在给定的光学焦深条件下，分析NILS随掩模台和承片台的运动标准偏差的变化趋势。以及在给定的NILS条件下，分析掩模台和承片台的运动标准偏差对DOF 的影响。研究掩模台和承片台的运动标准偏差对空气中成像质量的影响。研究结果表明，当掩模台和承片台的运动标准偏差大于12nm 时，在环形照明条件下，当光学焦深为0.5μm 时，NILS小于0.9，在Quasar照明条件下，当光学焦深为0.5μm 时，NILS 小于1。如果既要保证学焦深为0.5μm，同时NILS 要求>1.0，那么，掩模台和承片台的运动标准偏差应该小于10nm。