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来源 :第十一届全国半导体集成电路、硅材料学术会议 | 被引量 : [!--cite_num--]次 | 上传用户:[!--user--]
【摘 要】
:
通过拉晶实验,发现热对流、晶转、拉速等对掺磷N〈lll〉高阻硅单晶径向电阻率均匀性影响很大。热对流小,晶转快,拉速大能有效提高单晶径向电阻率均匀性。
【作 者】
:
万关良
方锋
郝玉清
吴志强
张果虎
【机 构】
:
有色金属研究总院
【出 处】
:
第十一届全国半导体集成电路、硅材料学术会议
【发表日期】
:
1999年期
【关键词】
:
高阻
硅单晶
电阻率
均匀性
热对流
实验
掺磷
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