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来源 :1998年全国半导体硅材料学术会议 | 被引量 : [!--cite_num--]次 | 上传用户:[!--user--]
【摘 要】
:
该文对硅单晶新生抛光镜面活性状态及其与环境吸附质之间的相互作用的动力学过程进行了分析研究。提出了两类吸附质状态的控制模型,通过实验验证了使用非离子大分子活性剂优先
【作 者】
:
刘玉岭
郝美功
【机 构】
:
工业大学
【出 处】
:
1998年全国半导体硅材料学术会议
【发表日期】
:
1998年期
【关键词】
:
硅单晶抛光片
镜面
吸附质
活性剂
状态
优先吸附
实验验证
力学过程
控制模型
工艺要求
表面清洗
非离子
低活性
大分子
稳态
环境
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