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氮化硅陶瓷及其在陶瓷电热塞中的应用研究
【机 构】
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南京火花塞研究所
【出 处】
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1987年中国硅酸盐学会电工陶瓷第二次学术年会暨交流会
【发表日期】
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1987年期
其他文献
利用透射电镜分析了采用ＬＰＣＶＤ法生长的ＳｉＮ〈，Ｘ〉膜的微观结构与薄膜应力之间的关系，首次报导了利用ＬＰＣＶＤ方法生长的ＳｉＮ〈，Ｘ〉膜中存在着微观的取向结构，并通过ＳｉＮ〈，Ｘ〉的背腐蚀结果确定该结构与ＳｉＮ〈，Ｘ〉膜的