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近年来,以集成电路为主要方向的半导体相关产业得到了较快的发展。集成电路电路技术的进步离不开半导体制造工艺的逐步改进,而磁控......
本文通过改变磁控溅射气体放电条件，首先在直流条件与脉冲条件下不同沉积时间内制备了纯Cr镀层，以此来讨论不同放电条件对镀层厚度均......
采用直流射频耦合磁控溅射法结合线棒刮涂法在玻璃衬底上室温生长微纳结构铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜,底层AZO薄膜射频功率占比从50％调......
反应溅射是制造化合物薄膜最通用的一种技术,至关重要的是靶由金属模式过渡到氧化物模式的临界条件.我们研究了Al-O2反应溅射过程......
