金刚石厚膜相关论文
ZnO是一种新型的直接带隙宽带半导体，室温禁带宽度约为3.37eV，具有较大的激子束缚能(60meV)，可以实现室温紫外激光发射。作为新一代的......
学位
提出一种制作CVD金刚石厚膜焊接刀具的新工艺。采用电子辅助化学气相沉积法 (EACVD)制备直径10 0mm、厚度 0 8～ 1mm的金刚石厚膜 ;......
本文首先使用磁控溅射法在清洁的金刚石厚膜表面溅射Ti/Cu层,利用热的浓硫酸腐蚀表层的Cu和Ti层,获得具有合金TiC层的金刚石厚膜表......
通过实验分析了沉积温度、乙炔 -氧气流量配比对金刚石厚膜质量的影响及高质量金刚石厚膜的生长过程
The effects of deposition ......
研究了气体流量比 (O2 /C2 H2 )对燃焰法沉积金刚石厚膜的影响 ,并以约 5 0 μm /h的较高速率沉积出了均匀、致密呈淡黄色透明状的......
研究了衬底温度、核化密度、衬底表而预处理等工艺参数对微波等离子体化学气相沉积法在硅片上同时生长碳化硅和金刚石的影响.采用......
采用扩散焊与钎焊相结合的方法,用Ti箔和Ag-Cu箔共同做中间层材料,在一定的温度、压力和保温时间下,实现了气相沉积金刚石厚膜与硬......
