0626006IBAD制备非晶碳膜与CrN镀层的耐磨性能比较及机理分析〔刊,中〕/杜军//真空科学与技术学报.—2006,26(3).—255-258(L)采用......

溅射深度剖析现已成为测量材料表层及薄膜中元素成分分布的一种常规技术,对其工作参数的研究是其发展迅速的重要原因。本文在介绍......

根据薄膜沉积过程等离子体对光学薄膜膜料蒸气分子或原子的作用，建立了低压等离子体离子镀设备，并对常规光学薄膜，如硫化物、氧化物薄......

对于一个全新的高级音响品牌,别说迅速打入主流市场,建立品牌认知度的难度有多高,就连新产品凭什么吸引挑剔的音响发烧友的眼光都......

针对目标磁控溅射台通孔结构侧壁覆盖能力差、镀膜均匀性差(8%左右)的问题进行设备优化改造;通过结构优化,其在高深宽比结构上的镀......