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高纯金属溅射靶材是集成电路用关键基础材料，对实现集成电路用靶材的全面自主可控，推动集成电路产业高质量发展具有基础性价值。本文......
随着通讯技术、器件及产品制造业的迅速发展，各类电子厂商对溅射靶材的需求越来越大，靶材生产企业针对通讯产品膜层的结构性能和工况......
溅射靶材是磁控溅射制备薄膜的关键原材料,其质量决定着溅射薄膜的性能。贵金属溅射靶材因具有优异的物理和化学性能而广泛应用于......
用化学共沉淀法制备了氧化锌铝粉末,用冷等静压+常压烧结法制备了相对密度为96.7％的氧化锌铝溅射靶材,并用射频磁控溅射法在玻璃基......
公司产品的毛利率远高于同行，随着规模扩大和行业竞争加剧，这样的毛利率恐怕难以保持下去。 3月25日，福建阿石创新材料股份有限公......
目前在高密度磁记录薄膜中大量使用到CoCrPt系溅射靶材.重点介绍了CoCrPt系磁性靶材国内外发展现状,靶材制备中的主要工艺以及质量......
以CuInGaSe2(CIGS)太阳能薄膜及其靶材为研究对象,概述了CIGS薄膜的各种制备方法,包括沉积法、置换法、蒸镀法及各种溅射法,介绍了......
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