无掩模相关论文
无掩模光刻技术因其无需物理掩模、成本低、适合大批量生产的优点，在微结构制作中具有广泛的应用。基于数字微镜器件（DMD）的无掩模数......
采用无掩模反应离子刻蚀法制备了黑硅。利用扫描电子显微镜及紫外-可见-近红外分光光度计研究了黑硅的微结构和光学特性。结果表明......
将涂有光致抗蚀剂的硅片或其它光敏材料置于由多束相干光以某种方式组合构成的干涉场中,可以在大视场和深曝光场内形成孔、点或锥......
