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循环抛光相关论文
ULSI硅衬底CMP速率稳定性的研究
介绍了ULSI硅衬底的抛光工艺,并对其抛光机理进行了理论分析。通过对抛光液循环使用过程中CMP速率稳定性及其影响因素进行深入系统......
期刊
化学机械抛光
硅衬底
去除速率
循环抛光
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