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用外吸除技术消除P型<111>硅片雾缺陷的研究——Ⅰ.背面多晶吸除技术
研究了背面多晶和改进的背面损伤两种外吸除工艺,及其在消除P型硅片雾缺陷中的应用。用TEM、SEM和热氧化等方法分析了背面多晶层和......
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吸除技术
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