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各向同性刻蚀相关论文
铝-RIE刻蚀工艺
干法刻铝中 ,BCl3添加 Cl2 、CHCl3和 N2 ,可改变 Al的刻蚀速率、Al对 Si O2 和胶的选择性、线宽和胶膜质量 ,其中 Cl2 流量影响最......
期刊
刻蚀速率
刻蚀工艺
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光刻胶
各向同性刻蚀
论用于各向同性湿法刻蚀中的氮化硅掩膜
HNA溶液(又称乙酸、氢氟酸、硝酸的混合溶液)作为刻蚀液,一般用于硅的各向同性湿法刻蚀程序中,而耐刻蚀性很好的氮化硅常被用作顶......
期刊
各向同性刻蚀
掩膜
氮化硅
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