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X射线光刻掩模相关论文
基于金刚石薄膜的X射线光刻掩模材料的研究
X射线光刻掩模技术(XRL)被认为是实现32nm技术节点的下一代光刻技术(NGL)之一。作为X射线光刻掩模材料的候选者之一,金刚石薄膜的许......
学位
X射线光刻掩模
纳米金刚石薄膜
光学性质
HFCVD
化学气相沉积
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