真空灭弧室以其环保和免维护等优点被广泛应用于配网设备,真空电弧弧后微观特性是表征真空灭弧室开断性能的重要参量。当弧后残余......

等离子体在微电子工业及半导体薄膜材料生长等方面有着广泛的应用。对不同条件下的辉光放电等离子的放电机理、特性的了解及诊断是......

研究了以微波ECR等离子体源作为等离子体发生器的空间环境模拟装置.试验以氩气为放电气体,通过分析气压、微波功率、磁场等放电条......

近年来,随着对航天器推进系统性能要求的不断提高,电推进以其独有的优势引起了航天界的兴趣和重视,并越来越多的被应用到空间任务......

随着航天技术不断发展，传统的化学推力器已经难以满足深空探测的需要,具有比冲高、质量轻、推力小和控制精度高等优点的电推力器逐......

金刚石具有众多优异的性能，而低压化学气相沉积(CVD)技术的发展为金刚石材料的广泛应用提供了极佳的机会。金刚石膜的CVD过程可以使......

感应耦合等离子体源（Inductively Coupled Plasma Source, ICPS）是低气压下产生大面积、均匀稳定等离子体的一种重要方式。目前已被......

随着低温等离子体的广泛应用，对等离子体各项参数的控制越来越受到关注，等离子体Langmuir探针诊断是一种传统的测量等离子参数的实验......

脉冲磁过滤阴极弧等离子体沉积由于能很好地过滤液滴,沉积几乎所有金属及其合金薄膜材料,尤其能沉积极有应用前景的类金刚石膜及用......

本实验采用自制Langmuir探针和发射光谱对柱面射频感应耦合氩气等离子体进行了诊断。实验中，研究了在线圈之间什么也不加时等离子体......

在现代半导体行业中，低温等离子体常应用于薄膜生长、基片刻蚀和表面改性等。相比于感应耦合等离子体源而言，容性耦合等离子体源的结......

低压低温等离子体作为重要的材料加工手段,在微电子、显示技术、超大规模集成电路工艺以及新材料等领域中得到广泛应用。其中在等......

射频感性耦合等离子体（Inductively Coupled Plasma，即射频ICP）具有放电气压低、密度高、装置简单以及空间均匀性易于控制等优点，因此......

为揭示磁控溅射辉光放电等离子体参量对Si薄膜沉积过程的本质影响,采用Langmuir探针于不同的靶电流、靶基距和氢分压条件下对直流......

采用光谱诊断法和Langmuir单探针法对射频感应耦合Ar气等离子体特性进行分析.通过光栅光谱仪研究了低气压下Ar气等离子体的光谱强......

分别通过Langmuir探针测量和动力学模型模拟方法研究了射频感应耦合Ar-N2等离子体中电子能量分布、电子温度、电子密度等物理量随N......