采用分子束外延技术在GaAs缓冲层上沉积Ga液滴,探究溶蚀时间对Ga液滴形貌的影响.实验中溶蚀阶段的衬底温度为340℃,沉积6单原子层G......

本文研究了Ga液滴在Al0.4 Ga0.6 As表面的扩散行为.在衬底温度为380℃时,在Al0.4 Ga0.6 As薄膜上沉积3 MLGa液滴;在零砷压下,通过......