BCN薄膜相关论文
本文采用两种靶源(B4C靶,BN／C拼合靶),利用脉冲激光沉积技术在单晶Si基片上制备BCN薄膜,系统研究了沉积工艺、退火条件和靶源形式对......
磁控溅射技术因其具有较高的沉积率速率和较好的成膜质量而成为薄膜制备的重要手段之一，被广泛应用于特殊功能材料薄膜及材料改性等......
B-C-N相的特殊性质引起了人们浓厚的兴趣,以高纯B4C(99.99%)靶所制备BCN薄膜由于具有优异的力学性质和耐磨性,可望在某些领域替代......
