a-Si:H/a-SiN_x:H超晶格薄膜的制备及其性质

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：hejianfeng05

【摘要】

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本文报道了a-Si:H/a-SiN_x:H超晶格薄膜的制备方法、结构以及在光学方面的量子尺寸效应. This paper reports the preparation, structure and quantum size effect of a-Si

【作者】

：

王志超刘湘娜何宇亮吴汝麟

【机构】

：

南京大学物理系,南京大学物理系,南京大学物理系,南京大学物理系

【出处】

：

半导体学报

【发表日期】

：

1987年01期

【关键词】

：

超晶格薄膜量子尺寸效应单晶半导体非晶半导体光学衬底势阱半导体薄膜沉积膜

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本文报道了a-Si:H/a-SiN_x:H超晶格薄膜的制备方法、结构以及在光学方面的量子尺寸效应. This paper reports the preparation, structure and quantum size effect of a-Si: H / a-SiN_x: H superlattice films.

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