新结构高性能In_(0.3)Ga_(0.7)As/In_(0.29)Al_(0.

来源 :固体电子学研究与进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xinxing1983
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新结构高性能In_(0.3)Ga_(0.7)As/In_(0.29)Al_(0.71)As/GaAsHEMT研究证明,InGaAsHEMT的结构优于GaAsMESFET和习用的AlGaAs/GaAsHEMT。在GaAs上制备的赝配结构HEMT(PM-HE... The new structure of high-performance In_ (0.3) Ga 0.7 As / In 0.29 Al 0.71 As / GaAsHEMT shows that the structure of InGaAsHEMT is superior to that of GaAsMESFET and conventional AlGaAs / GaAsHEMT. Pseudo structure prepared on GaAs HEMT (PM-HE ...
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