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介绍了产生等离子几种放电方式（如直流二极放电，射频放电，真空辉光放电，真空弧光放电等）与等离子体相关的溅射沉积，离子镀沉积等常用的真空沉积技术及其在薄膜 备中的应用。
与等离子体相关的真空沉积技术及其应用
【摘 要】
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介绍了产生等离子几种放电方式（如直流二极放电，射频放电，真空辉光放电，真空弧光放电等）与等离子体相关的溅射沉积，离子镀沉积等常用的真空沉积技术及其在薄膜 备中的应用。
【机 构】
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东南大学电子工程系,南京建筑职业技术教育中心
【出 处】
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电子工程师
【发表日期】
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1999年7期
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