【摘 要】
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采用原子层沉积技术(ALD)在不锈钢微通道管式反应器内壁沉积二氧化硅(SiO2)和二氧化钛(TiO2)薄膜,以抑制碳氢燃料热裂解过程中由于金属催化作用导致的结焦.使用石英晶体微天
【机 构】
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西安近代化学研究所火炸药燃烧国防科技重点实验室,材料表面工程与纳米修饰实验室,氟氮化工资源高效开发与利用国家重点实验室,北京动力机械研究所
【基金项目】
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国家“万人计划”青年拔尖人才支持计划(批准号:W02070370)资助~~
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采用原子层沉积技术(ALD)在不锈钢微通道管式反应器内壁沉积二氧化硅(SiO2)和二氧化钛(TiO2)薄膜,以抑制碳氢燃料热裂解过程中由于金属催化作用导致的结焦.使用石英晶体微天平(QCM)测得SiO2和TiO2薄膜的生长速率分别为0.15nm/周期和0.11nm/周期,因此可以通过改变沉积周期数精确控制钝化层的厚度.在结焦实验中,当钝化膜层较薄时,其抗积碳钝化作用较弱;随着钝化薄膜厚度的增加,其钝化作用逐渐增强,微通道反应器的运行寿命显著延长.实验表明,TiO2薄膜的抗积碳钝化性能普遍优于SiO2薄膜.
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