垂直发射极镇流电阻在HBT中的发射极电流集边效应中的作用

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wangshucai123
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
在异质结双权晶体管(HBT)功率器件中可以引入外延生长的发射极镇流电阻,以改善其热稳定性。通过理论计算和实验表明这种低掺杂的外延层不仅能作为镇流电阻,而且在功率HBT器件中还能非常有效地降低发射极电流集边效应。
其他文献
采用二维数值模拟方法详细分析了基区复合电流对nSi/pSi1-xGex/nSi应变基区异质结双极管共射极电流放大系数β的影响,给出了Si1-xGexHBT的Gummel图,平衡能带图,得出在靠近发射结附近基区的复合电流是引起的β下降的
利用电学测量方法。给出了在集成电路制造过程中,影响光刻工艺的各种颗粒尘埃(缺陷)的粒径分布参数提取方法。首先基于双桥微电子测试结构,通过具体制造工艺得到数据,然后处理得到
将Si、Ge和Ar三种离子注入到磁控溅射制备的富硅二氧化硅和热生长的二氧化硅中,在N2气氛中,作550、650、750、850、950和1050℃退火后,进行电致发光研究。对比样品为退火条件相同的未经注入的上述两种二氧化
提出了一种适合于车用涡轮增压柴油机实时仿真的压气机特性计算方法,应用方便,计算时间少。对一台6缸增压柴油机压气机特性的实例计算表明,此方法具有较好的计算精度。
研究了掺氮和不掺氮直拉硅单晶中,空洞型原生缺陷(voids)的分布行为和其退火性质。从两种晶体不同位置取样,观察与大尺寸voids相关的流水花样缺陷(FPD)沿晶体轴向的分布,然后在1050-1
将覆盖层引入生长停顿的量子点结构作为激光器有源区来研究量子点激光器受激发射机制。由于强烈的性带填充效应,光致发光谱和电致发光谱中观察到对应于量子点激发态跃迁的谱峰
介绍了一种腐蚀薄膜的研制方法及其装置,为制备带有各种金属引线及电极的大面积超薄悬浮薄膜(厚度:50~500nm、1~5μm;面积:3mm×2mm、10mm×5mm)提供了一种有效的方法.提高
本文运用回归的通用旋转试验设计法试验,拟合出转速、负荷、冷却水温度、润滑油温度与油耗率之间的回归方程式。在此基础上详细分析了冷却水与润滑油的温度对油耗率的影响规
建立了一个适用于描述低能电子散射的物理模型,利用Monte Carlo方法对低能电子在多元多层介质中的散射过程进行模拟。低能电子弹性散射采用较严格的Mott截面描述,为了节约机时,