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本文考察了不同气氛再生后ＣｕＯ／ＡＣ脱硫剂的二次脱硫活性，并藉借助ＸＲＤ和ＸＰＳ表征技术以及对再生后脱硫剂残硫的分析，探讨了脱硫剂以不同还原剂在不同温度下再生后二次脱硫活性差异的内在原因，结果表明：脱硫剂经Ｈ２再生后二次脱硫活性与初活性相比出现大幅度下降，Ｈ２气氛中添加Ｈ２Ｏ可提高其二次脱硫活性；经ＮＨ３在３００℃再生后二次脱硫活性与初活性相当，两次再生后仍未观察到活性的明显下降，ＮＨ３再生时脱硫