高气压屏栅电离室的调试和~(58)Ni(n,p)反应双微分截面的试测

• 作 者: 张雪梅 陈泽民 梁伟 唐国有 张国辉 ＧｌｅｄｅｎｏｖＹｄ ＫｈｕｕｋｈｅｎｋｈｕｕＧ ＳｅｄｙｓｈｅｖａＭＶ
• 机 构: 清华大学!北京１０００８４,清华大学!北京１０００８４,清华大学!北京１０００８４,北京大学重离子研究所!北京１００８７１,北京大学重离子研究所!北京１００８７１,俄罗斯联合原子核研究所!Ｄｕｂｎａ，
• 出 处: 核技术
• 发表日期: 1999年01期
• 关键词: 屏栅电离室 p 双微分截面 反应截面 能量刻度 试测 阴极场 测量方法 电子学系统

介绍了高气压屏栅电离室的结构和调试，并对５８Ｎｉ（ｎ，ｐ）试测结果进行了分析，结果证明此电离室和测量方法对（ｎ，ｐ）反应的测量是适用的。目前正用此电离室进行测量（ｎ，ｐ）反应截面的实验．

The structure and commissioning of high pressure grid ionization chamber are introduced. The results of 58Ni (n, p) test are analyzed. The results show that the ionization chamber and measurement method are suitable for the measurement of (n, p) reaction. This ionization chamber is currently undergoing an experiment to measure the (n, p) reaction cross section.