碳纳米管修饰碳黑微电极阳极溶出伏安法测定痕量铜

• 作 者: 邓培红 匡云飞 张军 黎拒难
• 机 构: 衡阳师范学院化学与材料科学系,湘潭大学化学学院
• 出 处: 冶金分析
• 发表日期: 2008年8期
• 关键词: 多壁碳纳米管 化学修饰电极 铜 阳极溶出伏安法 multi-wall carbon nanotube chemically modified electrod

制备了多壁碳纳米管修饰碳黑微电极并研究了铜在该电极上的阳极溶出伏安行为；在极谱分析仪上采用二阶导数线性扫描伏安法进行分析，提出了一种测定痕量铜的新方法。实验发现，在0．1mol／LHAc—NaAC缓冲液（PH4．2）中，铜离子于-400mV（vs.SCE）处被吸附还原，富集在该修饰电极表面。从-400mV以100mV／s的速率正向扫描至400mV，铜在约-22mV处出现一灵敏的阳极溶出峰。峰电流与铜的浓度在8．0×10^-10～1．0×10^-7mol／L范围内呈良好的线性关系，检出限