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采用Ｎ＾＋＋Ｃｒ＾＋多元离子束增强沉积合成（ＴｉＣｒ）Ｎ膜层，对膜层进行了ＡＥＳ，ＴＥＭ和ＸＲＤ分析、测试了膜基体系的力学性能和电化学性能。与普通物理气相沉积相比，多元离子束增强沉积显示了开发新型薄膜材料的较强潜力。
多元离子束增强沉积在新型薄膜材料上的应用
【摘 要】
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采用Ｎ＾＋＋Ｃｒ＾＋多元离子束增强沉积合成（ＴｉＣｒ）Ｎ膜层，对膜层进行了ＡＥＳ，ＴＥＭ和ＸＲＤ分析、测试了膜基体系的力学性能和电化学性能。与普通物理气相沉积相比，多元离子束增强沉积显示了开发新型薄膜材料的较强潜力
【机 构】
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北京师范大学低能核物理所国家教委射线束材料工程开放实验室,大连理工大学三束实验室
【出 处】
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原子核物理评论
【发表日期】
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1997年3期
【基金项目】
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北京市自然科学基金
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