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以气相色谱与高温裂解炉联用，对用于制备Ｓｉ—Ｃ—Ｎ微粉的前体［ＳｉＣｘＮｙＨｚ］ｎ在Ａｒ气条件下高温裂解过程中所逸出的ＣＨ４、Ｈ２气体进行了分析。讨论了前体在Ａｒ气体中裂解时逸出气体浓度的变化和裂解时间、裂解温度对所逸出气体的影响以及Ｓｉ—Ｃ—Ｎ微粉中游离碳的影响。
气相色谱-裂解炉联用分析硅氨烷高温裂解逸出气体
【摘 要】
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以气相色谱与高温裂解炉联用，对用于制备Ｓｉ—Ｃ—Ｎ微粉的前体［ＳｉＣｘＮｙＨｚ］ｎ在Ａｒ气条件下高温裂解过程中所逸出的ＣＨ４、Ｈ２气体进行了分析。讨论了前体在Ａｒ气体中裂解时逸出气体浓度的变化和裂解时间、裂解温
【机 构】
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国防科技大学材料工程与应用化学系!长沙410073,国防科技大学材料工程与应用化学系!长沙410073,国防科技大学材料工程与应用化学系!长沙410073,国防科技大学材料工程与应用化学系!长沙410
【出 处】
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分析化学
【发表日期】
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1997年12期
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