【摘 要】
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通过对酸性铬镀液的电化学测试以及对电极表面的XPS分析,发现在金属铬沉积前,铜阴极上发生多步骤的铬酸电还原反应,其中间产物与电极表面发生化学作用,形成主要成分为CuOCrOH
【机 构】
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厦门大学化学系物理化学研究所,厦门大学化学系物理化学研究所,厦门大学化学系物理化学研究所
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通过对酸性铬镀液的电化学测试以及对电极表面的XPS分析,发现在金属铬沉积前,铜阴极上发生多步骤的铬酸电还原反应,其中间产物与电极表面发生化学作用,形成主要成分为CuOCrOH的氧化膜;与此同时,电极表面附近形成阴极膜,氧化膜及阴极膜的存在引起异常的循环伏安图和负阻现象。
Through the electrochemical test of acid chrome plating bath and the XPS analysis of the electrode surface, it was found that there are multiple steps of chromic acid reduction reaction on the copper cathode before the metal chromium deposition, and the intermediate product chemically interacts with the electrode surface to form the main The composition is CuOCrOH oxide film; at the same time, the formation of the cathode film near the surface of the electrode, the oxide film and the cathode film caused abnormal cyclic voltammogram and negative resistance phenomenon.
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