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采用浸渍-提拉方法在单晶硅片上制备硬脂酸钾以及添加离子液体的硬脂酸钾复合薄膜，采用DF-PM型静-动摩擦磨损试验机考察薄膜在低速滑动条件下的摩擦磨损性能，采用扫描电子显微镜和X射线能量散射谱仪观察分析薄膜及其偶件表面的磨损形貌及典型元素面分布．结果表明：在相对低速滑动条件下，在羟基化硅基底上制备的复合薄膜的摩擦磨损性能优于硬脂酸钾薄膜；在载荷为1、0N条件下，含离子液体质量分数40．0％的复合薄膜的耐磨寿命超过5000次，而硬脂酸钾薄膜仅为100次左右；随着复合薄膜中离子液体含量增加，复合薄膜更容易在偶件