气体流速对FCVA技术制备nc-ZrC/a-C:H复合膜的影响

• 作 者: 李作文 黄鑫 廖斌 曹望 周福增 伏开虎 周晗 张旭
• 机 构: 北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京师范大学核科学与技术学院北京市辐射中心
• 出 处: 北京师范大学学报(自然科学版)
• 发表日期: 2014年6期
• 关键词: 磁过滤阴极真空弧(FCVA) nc-ZrC/a-C:H 气体流速

采用磁过滤阴极真空弧(FCVA)技术,室温下通入C2H2在Si(100)与304不锈钢片上制备nc-ZrC/a-C:H复合薄膜.采用XRD、Raman、XPS、SEM-EDS研究了薄膜的成分及微观结构,利用纳米力学探针和摩擦磨损仪测试薄膜的硬度及摩擦磨损性能.主要讨论了不同C2H2气体流速对复合膜成分、结构及其性能的影响,研究结果表明:C2H2气体流速由20mL·min-1增加到70mL·min-1时,薄膜中的C原子分数逐渐升高;气体流速超过70mL·min-1后,C原子分数